伴随制程进步清洗步骤持续不断的增加，清理洗涤设施市场需求量开始上涨半导体污染物对半导体制造生产良率影响重大，清洗步骤数量约占所有芯片制造工序步骤的33%，是制造工艺步骤中占比最大工序，且随技术节点进步，清洗工序数量将继续提升。湿法清洗中的单片清理洗涤设施由于清洗能力优秀在清理洗涤设施中应用最广，市场占有率最大。

  国产清理洗涤设施市占率低下，国产清理洗涤设施替代空间巨大目前日本Screen、东电等国外企业仍占据全球半导体清理洗涤设施主要市场占有率。公司2019年全球市占率3%，产品已获得海力士、华虹、长江存储等领先Fab厂重复订单，在华虹、长江存储近期招标中清理洗涤设施中标率已超20%，仅次于Screen，认可度高。公司组合式清理洗涤设施大幅节约浓硫酸用量，具有成本和环境优势，前景可期。

  布局电镀设备、先进封装设备、立式LPCVD设备等，打开新市场空间前后道电镀设备市场同样由国外厂商主导，公司产品线齐全且毛利更高的前道电镀设备已度过客户验证期，电镀设备（约4亿美元）+先进封装设备（约18亿美元）+LPCVD设备（约17亿美元）合计打开约40亿美元市场，为企业来提供持续增长动力。

  盈利预测、估值与评级预计公司2022-2024年营业收入分别为23.95亿元、34.72亿元、47.73亿元，三年CAGR为43.33%；归母纯利润是4.01亿元、5.63亿元、7.91亿元，三年CAGR为43.77%。我们考虑到公司是国内清理洗涤设施龙头，并且平台化初具规模，结合绝对估值与PE估值方法，给予公司2022年108倍PE，得出目标价99.80元，首次覆盖给予“增持”评级。

  风险提示公司研发没有到达预期；下游客户建设进度没有到达预期；部分美国产零部件采购受阻；新冠疫情风险。

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